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产品特点
- 电源功率：30KW双通道输出射频电源，为镀膜工艺提供更大调整空间，同时提升了设备装调维护效率，节省了客户的供水供电等成本。五管设备也可灵活配置双通道或单通道；
- 快速降温炉体：采用最新专利技术，使炉体温度可以快速降到所需温度，降温速率提升20%以上，提升炉管内温度均匀性，进而提升镀膜均匀性；
- 辅助加热功能：提升均匀性，大口径反应管必备配置；
- 石墨舟电极技术：电极面接触，尾电极炉管外可调，加大电极尺寸及优化电极材料，良好解决高频报警课题。
基本参数
| 项目 | 技术指标 |
|---|---|
| 成膜种类 | AIO、SiN、SiON 、SiO |
装片量 | 768片/批(182mm),616片/批(210mm),500片/批(230mm) |
氧化铝膜厚均匀性 | 片内≤6%片间≤6%批间≤5%(182片) |
氧化铝折射率 | 1.65(±0.05) |
UP-TIME | ≥98% |
工作温度范围 | 100~600℃ |
温度控制 | 9点控温，内外双模控制 |
升温方式 | 自动斜率升温及快速恒温功能 |
降温方式 | 最新专利技术，9温区分段控制主动降温炉体 |
恒温区精度及长度 | <±1°C/4h(500°C) |
单点温度稳定度 | 6段 |
升温时间 | RT→450℃≤45min |
温度控制 | 双模精确控制 |
系统极限真空度 | <3Pa |
系统漏气率 | 停泵关阀后压力升率<1Pa/min |
压力控制方式 | 快速调整全自动闭环 |
工艺控制方式 | 工艺过程全自动控制，多重安全连锁报警 |
| 人机交互界面 | LCD显示、触摸操作、工艺编辑、在线监控、权限管理、班组管理、组网功能 |
MES/CCRM | 具有 |
