产品类别
-
低压硼扩散
查看详情低压硼扩散
TOPCon已成为N型电池产品化推广的主流技术路线之一,硼扩散主要用于电池制造中正面制作PN结,属于关键制程之一。查看详情 -
低压扩散/氧化退火炉
查看详情低压扩散/氧化退火炉
低压扩散是目前被认为有效提高太阳能电池转换效率一种有效途径;提高了扩散源的分子自由程,解决了扩散深度和均匀性的问题;该设备主要用于晶体硅太阳电池制造中硅片的扩散掺杂与氧化退火工艺。查看详情 -
LPCVD镀膜机
查看详情LPCVD镀膜机
适用于半导体和光伏领域,针对于光伏领域TOPCon工艺电池;LPCVD设备可一站式完成隧穿氧化层/Poly层的制备,热氧和沉积Poly层两个工艺合二为一能够大幅提高产能;同时兼容i/d-Poly生长工艺。查看详情 -
HALO系列“二合一”PECVD
查看详情HALO系列“二合一”PECVD
氧化铝PECVD设备是基于常规管式PECVD基础上,增加了氧化铝沉积工艺,对晶体硅电池背面进行高效钝化膜沉积的专用设备;适用于高效晶体硅PERC电池工艺过程中生长致密的氧化铝等背钝化薄膜材料,具有多种复合膜连续生长的特点。查看详情 -
PECVD
查看详情PECVD
在硅片表面沉积一层厚度约为75-140nm的减反射氮化硅膜(SixNy),同时利用在沉积过程中产生的活性H+离子,对硅片表面和内部进行钝化外理;在体现减少光反射的同时,也提高了硅片的少子寿命,最终直接体现在晶体硅电池的转换效率,主要用在PERC/TOPCon电池正背面氮化硅膜生长。查看详情 -
激光掺杂机
查看详情激光掺杂机
对预先沉积在硅片表层上掺杂源(如磷硅玻璃PSG、硼硅玻璃BSG等)进行再处理;使膜层表面或者浅表面的杂质在硅片中二次扩散,形成PP+、NN+高低结。查看详情 -
激光开膜机
查看详情激光开膜机
PERC&IBC,适用于单、多晶硅电池;刻蚀PERC太阳电池的背钝化膜,形成欧姆接触浆料的窗口。查看详情 -
薄膜电池刻线机
查看详情薄膜电池刻线机
主要应用于薄膜电池P1/P2/P3激光刻划、P4激光绝缘清边以及激光BIPV透光;通过激光刻划将薄膜电池分成小块,同时使其串联,以此来减少电能的损失和增大输出电压。查看详情 -
丝网印刷整线设备
查看详情丝网印刷整线设备
丝网印刷线设备包括硅片上料、丝网印刷、烘干、烧结、检测、分选等工序,作为晶硅电池片生产中最后的环节;对产线设备的产能、印刷精度、碎片率、分档准确性等要求非常高。查看详情